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商号
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株式会社ＩＨＩ機械システム
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本社所在地
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〒135-0061 東京都江東区豊洲三丁目1-1 豊洲IHIビル
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創業
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昭和12年
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代表取締役社長
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中村 悟
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資本金
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4億8千万円
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従業員
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約310名
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株主
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株式会社ＩＨＩ （ＩＨＩ１００%子会社）
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事業内容
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- 真空熱処理炉・新素材製造設備
- 真空浸炭装置
- 圧力容器、その他産業機械
- 各種真空熱処理
- 熱処理受託加工
- 熱処理技術の研究
IHI機械システムの事業について
IHI機械システムはIHIグループにて産業システムの熱・表面処理を担っています。
会社紹介
株式会社 IHI機械システム
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2007年
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石川島産業機械(株)と石川島岩国製作所が合併し「株式会社 IHI機械システム」が設立される。
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2009年
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株式会社日本ヘイズと合併。
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2011年
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本社を神奈川県横浜市から東京都港区へ移転。
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2012年
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株式会社アイメックと合併。
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2015年
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本社を東京都港区から東京都江東区へ移転。
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2016年
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IHI物流産業システムへIHI機械システムの産業機械事業を統合。
各務原事業所内に熱処理テクニカルセンターを開設。
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2019年
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愛知県知多市に5拠点目のサービスセンターを開設。
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2021年
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ドイツに欧州支店を開設。
石川島岩国製作所
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1973年
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IHIの工業炉事業専門工場として設立。社名「(株)岩国製作所」、資本金２億円(IHI７０％、帝人２０％、呉興業１０％)
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1976年
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資本金を４億円に増資(IHI７０％、帝人２０％、呉興業１０％)
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1988年
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真空・新素材炉のサービス業を開始。
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1991年
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新事務所を建設。
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1997年
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IHIより真空・新素材炉業務を移管。社名を「(株)石川島岩国製作所」に変更。
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1999年
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IHIの工業炉技術部門を移管。
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2001年
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ISO 9001 の認証取得。
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2002年
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IHI 100％資本となる。
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2005年
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真空炉 受注累計 1000基を達成。
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2006年
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岩国工場で、真空炉・新素材炉合計 1000基製造達成。
株式会社日本ヘイズ
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1974年
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米国C.I.HAYES INCとの間に締結された技術援助契約に基づき、株式会社日本ヘイズ設立。
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1977年
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愛知県丹羽郡大口町に本社を移転。
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1981年
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連続真空熱処理設備の開発に伴い工場増築。資本金を３千万円に増資。
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1982年
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ＪＨ熱処理研究所開設。
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1986年
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真空熱処理炉第２００号機をミネベア株式会社殿に納入。
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1991年
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資本金を７千５百万円に増資。
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1993年
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真空洗浄機の開発、販売を行なう。
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1996年
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真空浸炭装置「ＡＣＴ-ＶＡＣ」の開発を行なう。
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2001年
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事務棟・工場の増築を行なう。
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2002年
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石川島播磨工業(株)(IHI)の資本参加を受けIHIグループ企業となる。
ＨＷＢ-Ｖ型真空脱脂洗浄機の開発販売を行なう。
多室式連続真空浸炭装置「Ｖ-ＭＡＬＳ」の開発販売を行なう。
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2004年
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ISO 9001 2000品質マネジメントシステムの認証取得。
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2006年
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トンネル式連続真空浸炭装置「ＶＣＣＯ」の開発販売を行なう。
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2008年
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岐阜県各務原テクノプラザに本社・工場を移転。
