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株式会社IHI機械システム

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真空炉

概要

世界中に2000台を超える納入実績があり、お客様の処理品や熱処理プロセスに応じ、様々な真空炉をご提案します。


横型真空炉

特長

高い保持温度精度
  • 加熱室内の上下左右にヒーターを配置(PQ、RQ、VCH)
  • 加熱出力を前、中、後の3ゾーンで制御可能(PQ、RQ)
幅広い冷却ガス圧に対応可能(87∼600kPa)
冷却ガスの流れ方向の選択が可能
(上吹き、下吹き、上下吹き:RQシリーズ、マルチフロー:VCHシリーズ)
冷却用整流板を取り付けているので、均一冷却が可能
処理後の製品が綺麗かつ光輝性がある

用途

焼入れ、焼戻し、焼鈍、溶体化、磁性処理、時効処理、ろう付など

機能表

機能表
機能表
竪型真空炉
竪型真空炉

特長

高い保持温度精度
  • 加熱室内の周方向360°にヒーターを配置
  • 大型炉は更に上下にヒーターを配置し性能向上
幅広い冷却ガス圧に対応可能(87kPa:VGQ、87~280kPa:VPQ)
長尺品ならびに大物重量物の熱処理が可能

用途

焼入れ、焼戻し、焼鈍、容体化、磁性処理、時効処理、ろう付など

機能表

機能表
多室型真空炉
多室型真空炉

特長

高い保持温度精度
  • 加熱室内の上下左右にヒーターを配置
  • 加熱出力を前、中、後の3ゾーンで制御可能
幅広い冷却ガス圧に対応可能(87∼280kPa)
冷却方式が選択可能
処理後の製品が綺麗かつ光輝性がある

用途

焼入れ、焼戻し、焼鈍、容体化、磁性処理、時効処理、ろう付など

機能表

機能表
真空焼戻し炉
真空焼戻し炉

特長

N2ガスパージで光輝処理が可能
高い保持温度精度
  • 加熱室内の周方向360°にヒータを配置
  • 加熱出力ゾーンを任意で選択が可能
対流加熱機構を内蔵しているため低温域での処理が可能
オプション:高真空仕様、高温処理

用途

焼戻し、焼鈍、時効処理

機能表

機能表

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